Qabaqcıl tantal alaşım prosessoru

Ta-2.5w, TA-10W, TA-40W, yüksək ərimə nöqtəsi, korroziya müqaviməti və əla soyuq işləmə kimi müstəsna xüsusiyyətlər kimi tantalum və onun ərintiləri. Bu keyfiyyətlər onları müxtəlif sahələrdə, o cümlədən aviasiya, aerokosmik, yüksək temperaturlu texnologiyalar, nüvə və kimyəvi maddələrdə əvəzedilməzdir. Supersonik təyyarə, raket mühərrikləri, kosmik gəmi yanması kameraları, yüksək temperaturlu sobalar və korroziya üçün komponentlərin istehsalında geniş istifadə olunur

Nitrik turşusu (HNO3), kükürd turşusu (H2SO4) və ya hidroklorik / muriatik turşusu (HCL) olan mühitlər üçün sistant hissələri.

Bundan əlavə, tantal və niobium yüksək elektrik kondisidir

CTICKY, TH Ter ST qabiliyyəti və atom infiltrasiyasına qarşı effektiv maneələr kimi hərəkət edin. Tantalum və niobium örtükləri hissələrin və inteqrasiya olunmuş sxemlərin səthlərinə, korroziyanın qarşısını almaq olar və silikon substratlara mis yayılmasının qarşısını almaq olar. Tantal və niobium örtükləri əvvəllər istifadə olunan titan hədəf materialları ilə müqayisədə üstün baryer effektləri təklif edir. Tantal və niobium örtüklərin qalınlığı 0.005-0.01 mkm-ə çata bilər. Çox dövrə və çoxsaylı metallaşdırma strukturlarında istifadə edildikdə, tantal və niobium, digər digərləri film qalınlığı və maneə effektivliyi baxımından başqalarını üstün tutur. Bundan əlavə, tantal və niobium hədəfləri Ther Al Inkjet çap və LED panellərində geniş tətbiqlər tapır .